W5型全譜直讀光譜分析儀

產(chǎn)品分類(lèi)：全譜直讀光譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：W5型全譜直讀光譜分析儀可以廣泛適用于鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鋅基、鈦基、鈷基、鎂基、錫基、鉛基等金屬樣品的成分分析。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。W5型全譜直讀光譜儀擁有的分析性能、極短的分析時(shí)間，極低的運(yùn)行維護(hù)成本，智能化的操作模式，使樣品分析簡(jiǎn)單易行。

產(chǎn)品詳情

        W5型全譜直讀光譜儀可以廣泛適用于鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鋅基、鈦基、鈷基、鎂基、錫基、鉛基等金屬樣品的成分分析。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。W5型全譜直讀光譜儀擁有的分析性能、極短的分析時(shí)間，極低的運(yùn)行維護(hù)成本，智能化的操作模式，使樣品分析簡(jiǎn)單易行。

一：性能*的光學(xué)系統(tǒng)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對(duì)全元素檢測(cè)的需求。

直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，保證紫外區(qū)域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，較低的暗電流，較好的檢出限，較高的穩(wěn)定性，較強(qiáng)的靈敏度，滿足N的分析要求。

二：智能數(shù)字激發(fā)光源

全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，帶來(lái)*分析性能。

緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù)，使得光源具有較好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的可靠性。

高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

三：智能樣品激發(fā)臺(tái)設(shè)計(jì)

激發(fā)臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)

開(kāi)放式樣品臺(tái)，滿足大樣品測(cè)試要求。

變換電極可對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有較好的性能

視頻識(shí)別技術(shù)，確保樣品臺(tái)激發(fā)安全，可監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)的全景。

四：智能集成氣路模塊

智能氬氣流設(shè)計(jì)及粉塵收集清理裝置

氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過(guò)程中等離子體的飄移，確保CCD檢測(cè)器能夠觀測(cè)高溫區(qū)域光信號(hào)，提高精度和穩(wěn)定性。

激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

五：智能真空測(cè)量和控制

真空系統(tǒng)*程控，在保證真空度的同時(shí)減少真空泵的運(yùn)行時(shí)間，

雙級(jí)設(shè)置，在儀器不運(yùn)行的情況下，開(kāi)啟待機(jī)真空運(yùn)行狀態(tài)。

多級(jí)真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學(xué)元器件在可靠的環(huán)境中工作。

六：透鏡清理裝置

不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時(shí)有良好的隔離效果。

單板式透鏡設(shè)計(jì)，拆裝方便。

交叉機(jī)械裝置，在未解除隔離的情況有效保護(hù)光學(xué)系統(tǒng)。
七：計(jì)算機(jī)及讀出系統(tǒng)

計(jì)算機(jī)與手機(jī)（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)及FPGA、DSP和ARM技術(shù)，進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。

以太網(wǎng)和TCP/IP協(xié)議，數(shù)據(jù)傳輸高速、可靠。

數(shù)據(jù)可遠(yuǎn)程傳輸，全面實(shí)現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)化。實(shí)時(shí)方便對(duì)儀器運(yùn)行狀態(tài)的監(jiān)測(cè)和控制。

數(shù)據(jù)可進(jìn)行云打印。

八：的光譜分析軟件

光譜儀制作標(biāo)準(zhǔn)的光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標(biāo)準(zhǔn)化。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析方法和*的解決方案。

可根據(jù)用戶的材料要求，可現(xiàn)場(chǎng)延長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)曲線的測(cè)量上、下限。